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                       HMDS真空涂膠烘箱的認(rèn)識(shí)及預(yù)處理系統(tǒng)操作流程

隨著時(shí)間的推移，客戶定制化需求也越來(lái)越強(qiáng)烈，市場(chǎng)對(duì)HMDS真空涂膠烘箱的應(yīng)用需求也比較廣泛了，而這款真空烘箱也主要用于半導(dǎo)體行業(yè)，HMDS預(yù)處理系統(tǒng)通過(guò)對(duì)烘箱HMDS預(yù)處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。 

HMDS預(yù)處理系統(tǒng)操作流程：
 1、首先確定烘箱工作溫度；
 2、預(yù)處理程序?yàn)椋捍蜷_(kāi)真空泵抽真空，待腔內(nèi)真牢度達(dá)到某一高真空度后，開(kāi)始充入氮?dú)?，充到達(dá)到某低真空度后，再次進(jìn)行抽真空、充入氮?dú)獾倪^(guò)程，到達(dá)設(shè)定的充入氮?dú)獯螖?shù)后，開(kāi)始保持一段時(shí)間，使硅片充分受熱，減少硅片表面的水分;
 3、再次開(kāi)始抽真空，充入HMDS氣體，在到達(dá)設(shè)定時(shí)間后，停止充入HMDS藥液，進(jìn)入保持階段，使硅片充分與HMDS反應(yīng);
 4、當(dāng)達(dá)到設(shè)定的保持時(shí)間后，再次開(kāi)始抽真空。充入氮?dú)猓瓿烧麄€(gè)作業(yè)過(guò)程。